平板產(chǎn)業(yè)受到工藝技術(shù)和設(shè)備的制約，特別是TFT的工藝制程與集成電路相當(dāng)，潔凈技術(shù)尤為重要。記者從“2009中國(無錫)潔凈工程高峰論壇”上了解到，隨著集成電路制造技術(shù)的不斷升級(jí)，大部分國家主流廠商已經(jīng)進(jìn)入納米時(shí)代，制造集成電路所需的潔凈廠房的設(shè)計(jì)建造和節(jié)能創(chuàng)新也需要不斷提升，為先進(jìn)工藝產(chǎn)品的生產(chǎn)提供保障。在平板顯示領(lǐng)域，TFT-LCD第6代到第8代生產(chǎn)線已經(jīng)成為主流，在數(shù)萬平方米的潔凈廠房?jī)?nèi)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)，也對(duì)潔凈室的設(shè)計(jì)建造技術(shù)提出新的要求。今年7月1日，國家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè) 潔 凈 廠 房 設(shè) 計(jì) 規(guī) 范 》(GB50472)正式實(shí)施，這是我國專門針對(duì)電子工業(yè)領(lǐng)域的潔凈廠房設(shè)計(jì)推出的靠前個(gè)國家標(biāo)準(zhǔn)，它將幫助企業(yè)優(yōu)化潔凈室的設(shè)計(jì)與建造。

　　在本次高峰論壇上，來自國內(nèi)優(yōu)異的潔凈室設(shè)計(jì)建造企業(yè)和集成電路、平板顯示器制造企業(yè)的相關(guān)人士向與會(huì)各界人士介紹了潔凈室領(lǐng)域的較新技術(shù)與成功案例。

　　據(jù)國家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)潔凈廠廠房設(shè)計(jì)規(guī)范》主編陳霖新介紹，45nm非常大規(guī)模集成電路生產(chǎn)要求控制潔凈室的空氣潔凈度為ISO1級(jí)或2級(jí)，控制微粒粒徑為0.03μm。隨著集成度的不斷提高，加工尺寸日益微細(xì)化，這不僅要求達(dá)到十分嚴(yán)格的空氣潔凈度等級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，而且要確保在整個(gè)產(chǎn)品生產(chǎn)過程中，微粒不黏附在芯片上、芯片不受化學(xué)污染物的污染、芯片表面不受損傷。

　　“電子潔凈廠房的施工特點(diǎn)是造價(jià)貴、工期短、品質(zhì)要求高、復(fù)雜度和整合度高。”中國電子系統(tǒng)工程公司第二建設(shè)有限公司總工程師施紅平在演講中表示，“對(duì)于潔凈廠房的施工而言，必須克服高空作業(yè)、大面積精度控制和全過程潔凈施工控制等難題。”

　　中芯全部上海廠務(wù)處資歷豐富經(jīng)理陳玉峰則強(qiáng)調(diào)：“氣態(tài)分子級(jí)污染物(AMC)是危害生產(chǎn)工藝并導(dǎo)致成品率降低的分子態(tài)化學(xué)物質(zhì)，會(huì)在半導(dǎo)體制造多個(gè)關(guān)鍵工藝上造成各種危害，影響產(chǎn)品質(zhì)量。隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展，對(duì)AMC的控制將越來越嚴(yán)格。而單一的采用化學(xué)過濾器去除AMC的控制方法受許多條件的限制，并且會(huì)大幅提高運(yùn)行成本。因此應(yīng)該從設(shè)計(jì)選址、設(shè)備選型、改進(jìn)工藝流程等多方面進(jìn)行考慮。”